Расходные материалы ионно-плазменного напыления

Вакуумные ионно-плазменные покрытия могут быть получены из любых токопроводящих материалов, допускающих их разогрев вакуумной дугой и устойчивых к интенсивной сублимации в вакууме, сплавов и твердых растворов этих материалов, их соединений в виде интерметаллидов, нитридов, карбидов, окислов и т.д.

Подложкой могут служить детали из металлов, сплавов, диэлектриков, полимеров и композиционных материалов, допускающих технологический разогрев в вакууме до определенных температур. Температура зависит от вида покрытия и свойств материала детали и определяет свойства изделий с покрытием. Ее величина устанавливается в конкретном процессе отработки технологии и зависит от вида применяемого оборудования. Опыт показывает, что высококачественные покрытия из чистых металлов могут быть получены при температурах не менее 80…100 °С, покрытия из нитридов – при температурах не менее 150…300 °С, а карбидов - при температурах 250…400 °С.

Исходными технологическими материалами для вакуумного ионно- плазменного напыления являются катоды из напыляемых металлов. Как правило, это металлы высокой чистоты. Например, титан (ВТ-1-00), медь (М0), хром (ВХ-1), алюминий (А99) и т.д.

Для получения соединения напыляемых металлов применяют газы особой чистоты. Наиболее часто используются такие газы как азот, кислород, водород, углекислый газ, ацетилен. Для создания инертной среды в вакуумной камере применяют аргон или гелий.